Systém magnetronového naprašování ve vakuu (Magnetron Sputtering Vacuum Deposition System)
Praha malaPopis poptávky
Přístroj musí být schopen nanášet tenké vrstvy (cca. 100 nm) mědi a zlata na vybrané substráty (do průměru 2 palců). Možnost nanášení jiných kovů (Fe, Ni, Pt, Pd) je vysoce žádoucí.Informace o zakázce
Typ: Podlimitní
Evidenční číslo zakázky: Z2017-000444
Zadávací řízení: F02
Zadavatel-název/jméno: Univerzita Karlova, Přírodovědecká fakulta
IČ zadavatele: 00216208
Datum zveřejnění: 20.02.2017
Země: Česká republika
Evidenční číslo zakázky: Z2017-000444
Zadávací řízení: F02
Zadavatel-název/jméno: Univerzita Karlova, Přírodovědecká fakulta
IČ zadavatele: 00216208
Datum zveřejnění: 20.02.2017
Země: Česká republika
Podrobné informace o zadavateli a zakázce
Detaily zakázky: Bude zobrazeno po přihlášení.