Popis poptávky

Předmětem zakázky je dodávka zařízení pro odstraňování resistů po leptacích procesech, zejména elektronovou a UV litografií. V závislosti na typu resistu je dané zařízení je určeno pro reaktivní plazmatické leptání (Reactive Ion Etching - RIE) (ne)exponovaných positivních a negativních resistů. Dodávku tvoří kompletní systém vyžadující pouze připojení k síti 230 V, demineralizované vodě, vakuovému rozvodu a rozvodu stlačeného vzduchu nebo dusíku. Dále musí mít dodávané zařízení vstupy pro minimálně dva reakční plyny z důvodu různých leptacích postupů pro každý resist. Celkové uspořádání odstraňovače resistů musí být kompatibilní s čistými prostorami třídy 100. Podrobná specifikace je uvedena v zadávací dokumentaci.

Informace o zakázce

Podrobné informace o zadavateli a zakázce

Kategorie poptávky, klasifikace

• Fotorezistory, tenké povlaky, deoxidanty, ochranné povlaky