Atomic Layer Deposition (Systém pro depozici atomárních vrstev)
Česká republika malaPopis poptávky
Dodávka systému ALD pro účely projektu Fyzika pevných látek pro 21. století, kde bude využit jako „společný přístroj“ pro všechny výzkumné programy projektu. ALD bude sloužit jako modulární depoziční systém pro kontrolovanou depozici atomárně tenkých vrstev pro výzkum a vývoj nových materiálů a součástek v nanoelektronice, optoelektronice, optice a biomedicíně. Mezi hlavní deponované materiály v ALD budou patřit Al2O3, HfO2, ZnO, TiO2, SiO2 a Si3N4.Informace o zakázce
Typ: Podlimitní
Evidenční číslo zakázky: Z2019-026983
Zadávací řízení: F02
Zadavatel-název/jméno: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
IČ zadavatele: 68378271
Datum zveřejnění: 05.08.2019
Země: Česká republika
CPV: 38433100
Evidenční číslo zakázky: Z2019-026983
Zadávací řízení: F02
Zadavatel-název/jméno: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
IČ zadavatele: 68378271
Datum zveřejnění: 05.08.2019
Země: Česká republika
CPV: 38433100
Podrobné informace o zadavateli a zakázce
Detaily zakázky: Bude zobrazeno po přihlášení.