Popis poptávky

Předmětem zakázky je dodávka souhrnu analytických a preparačních metod seskupených do jednoho vzájemně propojeného celku nazvaného UHV komplexní systém. Pro zachování vysoké objemové i povrchové čistoty při přípravě vzorků a jejich následné analýze je celá aparatura udržována v podmínkách velmi vysokého vakua (UHV, tlak v řádu 10-8 Pa) odpovídajícím čerpacím systémem. Pro simultánní práci více uživatelů je UHV komplexní systém rozdělen na šest hlavních vzájemně nezávislých sekcí, které jsou spojeny lineárním dopravníkovým systémem. Ten zaručuje bezproblémový transfer vzorků mezi jednotlivými aparaturami v podmínkách UHV. Každá, níže uvedená, oddělená sekce reprezentuje preparační nebo analytickou techniku: Analytická technika LEEM/PEEM – samostatná UHV komora pro fotoelektronovou/nízkoenergiovou elektronovou mikroskopii s požadovaným rozlišením minimálně 10, resp. 5 nanometrů, technikou pro sledování in-situ procesů v reálném čase (kinetika růstu vrstev a reakcí) ve spojení se spektroskopickými mody nesoucími informace o elektronové struktuře s prostorovým rozlišením a mikrodifrakcí zachycující vývoj povrchové mřížky. Analytická technika STM/AFM – samostatná UHV komora pro rastrovací tunelovou mikroskopii (STM) a mikroskopii atomárních sil (AFM) s jejich příbuznými technikami plně kompatibilní s UHV prostředím pro dosažení atomárního rozlišení na kovových, polovodičových i oxidových površích. Technika je určená pro pozorování povrchů na atomární úrovni, strukturní analýzu, analýzu elektronové struktury povrchů s možností modifikace vzorků přímo v mikroskopu. Analytická technika fotoelektronová spektroskopie – reprezentována samostatným UHV systémem komor pro kombinaci rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS), úhlově rozlišitelné XPS, ultrafialové fotoelektronové spektroskopie (UPS) a úhlově závislé ultrafialové fotoelektronové spektroskopie nutná pro měření chemického složení (makroskopická úroveň), včetně vazebného okolí a sledovaných prvků s možností mapování pásové struktury valenčního pásu. Depoziční technika metodou MBE – reprezentována samostatnou velmi čistou kapalným dusíkem chlazenou procesní komorou (s vyloučením kontaminace jinými procesy) určenou pro přípravu polovodičů typu III-V (Ga, In, Al, As, Sb + C, Si), heterostruktur InAs, GaAs. pokračování viz oddíl II.5)

Informace o zakázce

Podrobné informace o zadavateli a zakázce

Kategorie poptávky, klasifikace

• Stroje a zařízení pro chemický, farmaceutický průmysl, laboratoře, distributoři