RIE odstraňovač rezistu
Česká republika malaPopis poptávky
Předmětem zakázky je dodávka zařízení pro odstraňování resistů po leptacích procesech, zejména elektronovou a UV litografií. V závislosti na typu resistu je dané zařízení je určeno pro reaktivní plazmatické leptání (Reactive Ion Etching - RIE) (ne)exponovaných positivních a negativních resistů. Dodávku tvoří kompletní systém vyžadující pouze připojení k síti 230 V, demineralizované vodě, vakuovému rozvodu a rozvodu stlačeného vzduchu nebo dusíku. Dále musí mít dodávané zařízení vstupy pro minimálně dva reakční plyny z důvodu různých leptacích postupů pro každý resist. Celkové uspořádání odstraňovače resistů musí být kompatibilní s čistými prostorami třídy 100. Podrobná specifikace je uvedena v zadávací dokumentaci.Informace o zakázce
Typ: Podlimitní
Evidenční číslo zakázky: 416859
Zadávací řízení: OPEN
Zadavatel-název/jméno: Vysoké učení technické v Brně
IČ zadavatele: 00216305
Datum zveřejnění: 25-06-2013
Země: Česká republika
CPV: 22520000-1
Evidenční číslo zakázky: 416859
Zadávací řízení: OPEN
Zadavatel-název/jméno: Vysoké učení technické v Brně
IČ zadavatele: 00216305
Datum zveřejnění: 25-06-2013
Země: Česká republika
CPV: 22520000-1
Podrobné informace o zadavateli a zakázce
Detaily zakázky: Bude zobrazeno po přihlášení.